半導體清洗概念

1. 半導體清洗是什么？

半導體清洗是清除客戶社設備配件在生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的污染物的工程。
通過多種半導體清洗辦法除去客戶制造工程中發(fā)生的污染，延長配件壽命，提高客戶工序的收率，開動率更大化，為顧客節(jié)約成本提供多種半導體清洗解決方案。

半導體清洗初期階段

產(chǎn)品表面處理更優(yōu)化

引進Nano 半導體清洗技術(shù)

Nano 半導體清洗技術(shù)的發(fā)展

根據(jù)客戶的各種工藝和配件提供合適的清洗技術(shù)。
不僅去除工藝污染物，還將配件表面維持在更佳狀態(tài)，控制顆粒，為了提供延長產(chǎn)品壽命的更佳解決方案進行堅持不斷地研究開發(fā)。

半導體清洗概念

	CuStrip?	CleanPeel?	SurFinish?	SurfRestore?
使用目的	將適用Cu工藝的配件的母材損傷減至更小，去除工藝污染物	通過將配件損傷減至更小以延長產(chǎn)品壽命	Al CVDShowerhead 母材和HoleDamage 減少	復原Quartz 材質(zhì)產(chǎn)品的PlasmaEtching表面損傷
效果	減少母材Etch Rate 延長產(chǎn)品壽命	延長產(chǎn)品壽命	Particle Source減少維持GasFlowUniformity	改善Particle 延長產(chǎn)品壽命
適用產(chǎn)品	Al Collimator、Al CoverRing 等	PVD 工藝Shield 類	CVD 工藝Show erhead	Quartz Window, Quartz pedestal等
效果